电子级过氧化氢应用零添加超纯 无有机残留 无金属离子

应用场景

半导体领域的应用

晶圆(硅片)清洗:在多种清洗工艺(如 RCA 清洗、SC-1/SC-2 等)中作为氧化剂去除有机残留、颗粒及金属污染物,确保硅片表面洁净,为后续层沉积和光刻工艺打基础。;氧化与表面准备:作为强氧化剂,它参与硅或金属表面的氧化/表面状态调整,以支持刻蚀、粘附或绝缘层形成等步骤。;高级封装和薄膜加工辅助:在后段封装、CMP(化学机械平坦化)等流程中也用来清洁或辅助材料性能控制。

光伏电池片领域的应用

光伏电池片前段清洗:在硅片制程和加工环节(如制绒、表面处理后),用高纯双氧水溶液对电池片表面进行清洁,去除加工残留物、有机物和微粒污染,提升电池片整体质量。;光伏组件制造/电池片清洁工艺:在组件装配或光伏电池片生产线中,电子级双氧水也作为高纯清洗剂用于清洁电池片表面,提升最终产品效率和稳定性。

核心亮点

全新过氧化氢现场即制解决方案

颠覆性的电化学绿色技术

  • 原料极致安全:仅以水和空气作为原料,非易燃易爆、无挥发性,运输与储存风险趋近于零。
  • 全程温和反应:独家电催化技术,在常温常压下进行,彻底杜绝高温高压带来的潜在风险。
  • 智能多重防护:设备配备多重传感器实时监控,任何参数异常将即刻自动停机。

显著的经济性、便利性

  • 运营费用锐减:彻底消除危化品运输费、仓储管理费及容器回收/处理费用。
  • 人力效率提升:一键式启停,全自动运行,极大解放您的操作与监控人力。

灵活可控的产品方案

  • 产量、浓度灵活调控:可在浓度 ≤2%范围下根据需要动态调整,同时灵活无极调节产量。
  • 智能互联:可选配物联网模块,实现远程监控、数据分析与预警推送,无缝对接您的智慧管理系统。
过氧化氢现场生产设备

设备参数

产量
≥300升/24小时
过氧化氢浓度
≤2%
供电电压
AC 200-240V 50Hz
运行功率
1.8kW
占地面积
2平方米

合作潜力与服务承诺

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